暗场光罩（Dark Mask）：制作Mask时，将版图定义的图形理解为透光区域。 亮场光罩（Clear Mask）：制作Mask时，将版图定义的图形理解为不透光区域。 不同Mask类型情况下，设计图形与光罩图形的关系

Jun 12, 2017 · 制版设备为无掩模光刻机（Maskless lithography，ATD1500），这是一种基于空间光调制器扫描技术的直写光刻设备，曝光波长405nm，可加工图形结构最小线宽为0.9um。 扫描速度30-420mm2/min，加工时长与图形区域总面积成正比。 图2 2.5”（左）和5”（右）掩膜版. 1） 绘制生成设备可以识别的掩膜版版图文件（GDS格式） 2）...

Oct 25, 2013 · dark就是以后wafer上面要保留下来的（不是曝光的窗口），clear就是要开出来的，要曝光显影掉的。 比如你版图上画的M1，金属连线当然是要保留下来的；NW当然是要开出窗口的，所以一般都是clear的

Mar 1, 2024 · 暗场光罩 （dark mask） 在暗场光罩中，绝大多数区域是不透光的，只有需要转移至晶圆上的图案区域是透光的。 在曝光过程中，只有这些少量的透光区域能够让紫外光照射到光刻胶上。

Feb 16, 2017 · 正刻是刻除，反刻是补充。 job view 時，看的的是正或反，如 Metal 是 dark ，則job view 時會看到 layout metal drawing 的地方是白的，沒畫的地方是黑的。 反之 contact 是clear ,Job view 時layout contact drawing 的地方會是黑的，沒畫的是白的. 解释很清晰，自己也今天才算是准确明白。 这个在哪个design rule doc能查到？

May 25, 2018 · Phase Shift Mask (PSM): A mask that, in addition to blocking light, selectively alters the phase of the light transmitted through the mask to improve depth of focus and resolution on a wafer. Photomask: A glass substrate with a layer of chrome on one side into which a portion of an electronic circuit design is etched.

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